Integriertes Nachrüstmodul für Wafer-Stepper ermöglicht automatisierte DUV-Belichtung mit Präzision

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Im kompakten 120 × 180 × 31 mm-Gehäuse integriert das Polarisationsfilter der Steinmeyer-Gruppe drei flächige DUV-Filter, die unabhängig auf 75 mm Hub verfahren werden. Feinmess Suhls trockenlaufender Edelstahl-PEEK-Gleitgewindetrieb mit M3×1P0.5-Spindel und Gewinderollen sorgt für 1,5 µm Wiederholgenauigkeit. Stickstoffinertbetrieb und Reinraummontage nach ISO-Klasse-6 mit Folge-Klasse-1-Reinigung garantieren wartungsfreien Dauerbetrieb bei minimaler Partikelbildung. Das nachrüstbare Add-on lässt sich in bestehende Wafer-Stepper integrieren Dank des zuverlässigen Designs entfallen aufwändige Wartungen über den gesamten Lebenszyklus.

Feinmess Suhl und Steinmeyer definieren Positionierpräzision neu für Halbleiterfertigung

Der Gleitgewindetrieb hat einen Spindeldurchmesser von 3 mm (Foto: Steinmeyer Gruppe)

Der Gleitgewindetrieb hat einen Spindeldurchmesser von 3 mm (Foto: Steinmeyer Gruppe)

Als Spezialist für kundenspezifische Positionierlösungen in der Halbleiterproduktion zeichnet sich die Steinmeyer-Gruppe aus Dresden durch umfassende Antriebs- und Präzisionsmesskompetenz aus. Im Silicon Saxony agiert das Unternehmen im größten IKT- und Mikroelektronik-Cluster Europas und kann auf mehr als 400 Jahre gebündelte Erfahrung verweisen. In enger Kooperation mit Feinmess Suhl resultieren hochreine, langlebige Positioniersysteme, die extreme Reinheits-, Lebensdauer- und Genauigkeitsanforderungen mit überlegener Wiederholgenauigkeit erfüllen. Diese Lösungen unterstützen anspruchsvolle Fertigungsprozesse und optimieren Ausbeute.

Add-on Modul integriert dreifach Polarisationsfilter zur DUV-Exposition in Steppern

Die leichte Nachrüstbaugruppe für bestehende Wafer-Stepper misst 120 × 180 × 31 mm und verwendet eine Bauhöhe von nur 15 mm, um drei flächige Polarisationsfilter aufzunehmen. Jeder Filter kann über einen Bereich von 75 mm unabhängig positioniert werden. Zum Einsatz kommen drei elektronisch kommutierte Gleichstrommotoren, die über robuste Gleitgewindetriebe eine exakte Strahlanpassung ermöglichen. Dieses Modul unterstützt die fortschreitende Miniaturisierung und Automatisierung in der DUV-Lithografie. Energieeffizienz gesteigert und Zuverlässigkeit gewährleistet.

Trockenlaufender Gleitgewindetrieb mit Edelstahl-PEEK-Paarung erreicht minimale Reibung und Verschleiß

Die Kombination aus nicht-rostendem Edelstahl (Spindel) (Foto: Feinmess Suhl GmbH)

Die Kombination aus nicht-rostendem Edelstahl (Spindel) (Foto: Feinmess Suhl GmbH)

Eine sauerstofffreie Stickstoffatmosphäre erzeugt tribologische Beanspruchungen, wie sie im Hochvakuum auftreten. Entsprechend dürfen nur Werkstoffe eingesetzt werden, deren Oberflächen eine makellose Glätte, extrem niedrige Ausgasungsraten und minimales Partikelaufkommen garantieren. Zur Erfüllung dieser Vorgaben kombinierte Steinmeyer mit Feinmess Suhl rostfreien Edelstahl und mit schmierstoffhaltigen Füllstoffen versehene PEEK-Muttern. Diese Paarung liefert konstante Gleiteigenschaften, effiziente Ableitung von Prozesswärme sowie hohe strukturelle Stabilität und verzichtet vollständig auf den Einsatz von Flüssigschmiermitteln bei minimalem Wartungsaufwand.

Gewinderollenverfahren ermöglicht höchste Oberflächengüte und langfristig außergewöhnlich geringe Partikelbildung

Der von Feinmess Suhl hergestellte Gleitgewindetrieb M3x1P0.5 (3 mm Spindeldurchmesser, 112 mm Länge) überzeugt durch sein spanloses Kaltumformverfahren, das ultra­feine Oberflächen und extrem niedrigen Verschleiß hervorbringt. Die integrierte Selbsthemmung stellt zuverlässige Verriegelung ohne zusätzliche Komponenten sicher. So werden Positionen dauerhaft und präzise fixiert, mit einer Wiederholgenauigkeit von 1,5 µm. Die sorgfältige Wahl robuster Werkstoffe und strikte Qualitätskontrolle garantieren wartungsfreien Betrieb über einen Zeitraum von zehn Jahren.

3900 Quadratmeter Reinraumkapazität und Stickstoffinertgasverpackung ermöglichen optimale maßgeschneiderte Lösungen

Ultrakompakte, hochpräzise Positionierlösung zur Wafer-Belichtung (Foto: Bild: Steinmeyer Gruppe)

Ultrakompakte, hochpräzise Positionierlösung zur Wafer-Belichtung (Foto: Bild: Steinmeyer Gruppe)

Die Produkte werden bereits in der Entwicklungsphase vakuumoptimiert ausgelegt, damit sämtliche Bauteile kontaminationsfrei bleiben. Die Montage erfolgt in ISO Klasse 6 Reinraumumgebungen mit präzisen Umgebungsparametern. Nach der Installation werden die Einheiten einer gründlichen Reinigung nach ISO 14644-1 Klasse 1 unterzogen. Auf über 3.900 Quadratmeter Reinraumfläche realisieren die Teams modulare Fertigungslinien. Ein Stickstoff-Inertgasversand schützt die Systeme vor Partikelaufnahme während des Transports. So gewährleisten wir durchgängig hohe Qualität und leistungsstarke Ergebnisse.

Handling, Inspektion und EUV-Positionierung profitieren von kompakten hochpräzisen Antriebslösungen

Maßgeschneiderte Automationslösungen für die Halbleiterfertigung entstehen bei Steinmeyer in Kooperation mit August Steinmeyer. Das Portfolio umfasst trockenlaufende Gleitgewindetriebe und Kugelgewindetriebe mit spezialisierter Flüssigschmierung, die je nach Einsatzbereich optimale Reibbedingungen und Verschleißfestigkeit garantieren. Anwender wählen anwendungsgerecht zwischen geräuscharmen Dauerbetriebslösungen und hochdynamischer EUV-Bearbeitung. Dank präziser Gewinderollung, tribologisch optimierter Materialpaarung und modularem Konzept fügt sich jedes System nahtlos in bestehende Wafersteppers ein und liefert exakte Positioniergenauigkeit, lange Lebensdauer sowie wirtschaftliche und zuverlässige Performance.

Als Nachrüstmodul für DUV-Lithografiesysteme bietet das Polarisationsfilter eine ultrakompakte Lösung mit flächigen Filtern auf 15 mm Bauhöhe. Drei einzeln ansteuerbare Gleitgewindetriebe aus Edelstahl-PEEK liefern 1,5 µm Positioniergenauigkeit ohne Schmierstoffe. Komplett in ISO-Klasse-6-Reinräumen gefertigt und in stickstoffgespülter Atmosphäre verpackt, minimiert das System Partikelemission. Dank dauerhafter Trockenlauftechnik ermöglicht es wartungsfreien Dauerbetrieb und sorgt für unterbrechungsfreie Produktionszyklen in anspruchsvollen Halbleiterfertigungen. Durch Bauweise kann das Modul angepasst werden. Anwender profitieren von Wirtschaftlichkeit und Qualität.

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